IT之家 10 月 15 日信息，據武漢東湖新技術研發(fā)區(qū)管理委員會（中國光谷）今日信息，光谷企業(yè)在半導體專用光刻膠行業(yè)實現重大突破：

武漢太紫微光電科技有限機構（以下簡叫作“太紫微機構”）推出的 T150 A 光刻膠制品，已經過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計，有望開創(chuàng)國內半導體光刻制造新局面。

中國光谷官方介紹叫作：“該制品對標國際頭部企業(yè)主流 KrF 光刻膠系列。相較于被業(yè)內叫作之為‘妖膠’的國外同系列制品 UV1610，T150 A 在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到 120nm，且工藝寬容度更大，穩(wěn)定性更高，堅膜后烘留膜率優(yōu)秀，其對后道刻蝕工藝表現更為友好，經過驗證發(fā)掘 T150 A 中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優(yōu)異。”

IT之家查找公開資料獲悉，太紫微機構成立于 2024 年 5 月，由華中科技大學武漢光電國家科研中心團隊創(chuàng)立。

太紫微機構企業(yè)負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強暗示：“以原材料的研發(fā)為起點，最后得到擁有自主知識產權的配方技術，這只是個起始，咱們團隊還會發(fā)展一系列應用于區(qū)別場景下的KrF 與 ArF 光刻膠，為國內關聯產業(yè)帶來更加多驚喜。”